A A+ A++

Laboratorium funkcjonalizacji powierzchni

Atomic Layer Deposition, Physical Vapour Deposition

Laboratorium zostało wyposażone w dwa rodzaje urządzeń do nakładania cienkich warstw i powłok. Dysponujemy szerokim zakresem rodzajów nakładanych filmów, w różnorodnych temperaturach i z kontrolowaną grubością.

Atomic Layer Deposition (ALD)

Physical Vapour Deposition (PVD)

Urządzenie firmy Beneq pozwala na wytworzenie cienkich warstw w temperaturze do 500°C. Proces przebiega w próżni, a do przepłukiwania pomiędzy cyklami stosujemy azot o wysokiej czystości. Wymiary wewnętrzne komory: średnica 18 cm, wysokość 9 cm. Dysponujemy szeroką gamą prekursorów, umożliwiających nakładanie samodzielnej warstwy, jak i związków chemicznych, takich jak: cynk, cyna, glin, tytan, cyrkon, tantal. Warstwa może składać się zarówno z jednego z prekursorów, z kilku, a także z ich tlenków. Możliwe jest sterowanie ilością, jak i czasem trwania poszczególnych cykli.

Urządzenie firmy Moorfield, nanoPVD-S10A, to magnetronowy system rozpylania magnetronowego, do napylania metali lub materiałów izolacyjnych, takich jak tlenki i azotki. Urządzenia są wyposażone w turbomolekularne układy pompujące zapewniające pracę przy niskim poziomie zanieczyszczeń. Możliwe jest współosadzanie, a także napylanie reaktywne za pomocą modułu sterowania gazem/ciśnieniem, który może obsługiwać do 3 gazów procesowych. System współpracuje z klasycznymi przemysłowymi targetami oraz podłożami do 4”. Obecnie dysponujemy targetami: dwutlenek tytanu, azotek tytanu, tlenek cynku, tlenek glinu (III), węgiel, tlenek cyny.

Kontakt

Kierownik laboratorium: dr inż. Anna Taratuta
anna.taratuta@polsl.pl

© Politechnika Śląska

Ogólna klauzula informacyjna o przetwarzaniu danych osobowych przez Politechnikę Śląską

Całkowitą odpowiedzialność za poprawność, aktualność i zgodność z przepisami prawa materiałów publikowanych za pośrednictwem serwisu internetowego Politechniki Śląskiej ponoszą ich autorzy - jednostki organizacyjne, w których materiały informacyjne wytworzono. Prowadzenie: Centrum Informatyczne Politechniki Śląskiej (www@polsl.pl)

Zasady wykorzystywania „ciasteczek” (ang. cookies) w serwisach internetowych Politechniki Śląskiej

Deklaracja dostępności

„E-Politechnika Śląska - utworzenie platformy elektronicznych usług publicznych Politechniki Śląskiej”

Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie
Fundusze Europejskie