Neonowy napis "success"
Autor: Mateusz Naramski Publikacja: 14.11.2022 Aktualizacja: 14.11.2022
TOP 5! Gratulacje dla dr inż. Adama Ryszko i dr inż. Marka Szafrańca
Z przyjemnością informujemy, że JM Rektor Politechniki Śląskiej przyznał dr inż. Adamowi Ryszko oraz dr inż. Markowi Szafrańcowi dodatek projakościowy w ramach programu Inicjatywa Doskonałości – Uczelnia Badawcza za publikację wydaną w czasopiśmie TOP 5:
Mapping the landscape of the business model and open innovation scientific field to set proposals for directions of future research Ryszko Adam, Szafraniec Marek, Journal of Open Innovation: Technology, Market, and Complexity, 2022, vol. 8, nr 3, s.1-30, Numer artykułu:150. https://doi.org/10.3390/joitmc8030150
Serdecznie gratulujemy i życzymy wielu kolejnych sukcesów!
Aktualności
Pokaż wszystkie
Więcej aktualności
