O KONKURSIE
W ramach Chińsko-Polskiego Konsorcjum Uniwersyteckiego (SPUC), w skład którego wchodzi 27 uczelni członkowskich, w tym 12 polskich, zorganizowano Chińsko-Polski Konkurs Artystyczny 2020 „UMYSŁ I ZMYSŁY W SZTUCE I WZORNICTWIE”.
„UMYSŁ I ZMYSŁY W SZTUCE I WZORNICTWIE” skierowany był do studentów i pracowników uczelni zrzeszonych w Chińsko-Polskim Konsorcjum Uniwersyteckim i stanowi niezwykle cenną platformę promocji dialogu między uczelniami w Chinach i Polsce oraz między polskimi i chińskimi partnerzy akademiccy i biznesowi.
Przedmiotem Konkursu UMYSŁ I ZMYSŁY W SZTUCE I WZORNICTWIE są indywidualne interpretacje i odniesienia do tradycji i współczesnego życia krajów partnerskich Konsorcjum, które mogą przyczynić się do wzajemnego poznania i bliskości kultur oraz ich promocji.
Kategorie tematyczne prac konkursowych:
- Przestrzenne: obiekty lub wnętrza inspirowane i osadzone w tradycyjnej architekturze chińskiej i polskiej.
- Artystyczne: Obrazy, rzeźby i fotografie nawiązujące do historii i dziedzictwa kulturowego Chin i Polski.
- Hybryda: prace interdyscyplinarne łączące dwie wymienione powyżej formy działań.
Zgodnie z regulaminem konkursu termin nadsyłania prac upłynął 30 stycznia 2020 r.
Do konkursu zgłoszono łącznie 104 prace.
W dniu 12 lutego 2020 roku na Wydziale Architektury Politechniki Śląskiej w Gliwicach odbyło się uroczyste posiedzenie Sądu Konkursowego.
Ze względu na wysoki poziom prac Jury postanowiło przyznać:
I miejsce, II miejsce, dwie III nagrody ex aequo i siedem wyróżnień.
Szczegółowe informacje o konkursie oraz galerię wszystkich nadesłanych prac można znaleźć na tej stronie.
KONTAKT Z ORGANIZATOREM:
Politechnika Śląska
Wydział Architektury Politechniki Śląskiej,
Ul.Akademicka 7, 44-100 Gliwice (Polska)
artdesign@polsl.pl
