Contour X-100: Profilometria optyczna fotonicznych struktur i materiałów sensorowych
osoba odpowiedzialna: dr inż. Piotr Kałużyński
Realizujemy badania obejmujące swym zakresem:
- bezkontaktowe i bezinwazyjne monitorowanie i pomiar morfologii powierzchni materiałów i struktur o chropowatości mniejszej niż 0,01 μm, w szczególności struktur czujnikowych;
- pomiary 3D struktur fotonicznych, mikroelektronicznych, MEMS, MOEMS, PIC, itp., a także upakowania mikrostruktur IC;
- optyczny pomiar grubości warstw metalicznych i dielektrycznych;
- analiza wielkości ziaren i mikrocząstek zainkludowanych w strukturze osnowy materiału;
- pomiary struktur i materiałów wspierane technikami AFM, SEM-EDS, CLSM, elipsometrią spektralną i pomiarami parametrów mikroelektronicznych.
